MODEL: μLASER
Máy ghi μLaser là một thiết bị quang khắc laser trực tiếp, được thiết kế dành cho các trường đại học và cơ sở nghiên cứu muốn mở rộng khả năng của mình trong công nghệ quang khắc (lithography).
Máy sử dụng tia laser 405nm để ghi trực tiếp lên bề mặt phủ lớp nhạy sáng với độ phân giải cao dưới micromet. Máy có thể ghi các thiết kế như mặt nạ quang học hoặc các nguyên mẫu nghiên cứu trên các bề mặt lớn. Đặc biệt, máy có tích hợp camera, giúp căn chỉnh chính xác bản vẽ với các đặc điểm đã có sẵn trên bề mặt.
Quang khắc laser trực tiếp là gì?
Quang khắc laser trực tiếp giúp tiết kiệm chi phí và thời gian trong các lĩnh vực như vi lỏng, vi điện tử, cơ học vi mô và nghiên cứu vật liệu. Thiết bị này cho phép các phòng thí nghiệm tự sản xuất mặt nạ quang và thiết kế mà không cần phụ thuộc vào các nhà cung cấp bên ngoài.
THÔNG SỐ KỸ THUẬT
Kích thước (WxDxH)
510 x 360 x 455 mm
Trọng lượng
16 kg
Nguồn điện
110V/220V, công suất 400W
Tốc độ ghi tiêu chuẩn
100-120 mm/s
Diện tích ghi tối đa
100 x 92 mm²
Bước định vị đơn hướng
X = 0,16 µm, Y = 1,00 µm
Độ ồn cơ học trên trục X và Y
< 1 µm
Độ chính xác căn chỉnh nhiều lớp
5-10 µm (Có tùy chọn bàn xoay để căn chỉnh dễ dàng hơn)
Kích thước chi tiết nhỏ nhất có thể đạt được
3-5 µm tùy theo đặc điểm chi tiết
Bước sóng laser
405nm (tùy chọn 375nm)
Định dạng hỗ trợ
PNG, GDSII
Chức năng phần mềm
Xoay, phản chiếu, đảo ngược, thay đổi tỷ lệ, thêm viền
ƯU ĐIỂM
- Quang khắc với độ phân giải cao
- Diện tích ghi lớn
- Dễ dàng thay đổi kích thước điểm laser
- Sử dụng quang học để kiểm tra
- Thiết kế siêu nhỏ gọn
- Phần mềm thân thiện với người dùng
- Giá thành thấp hơn so với các sản phẩm cùng phân khúc
- Tùy chọn viết trên epoxy photoresist
