Model: Quantus® LP100
Quantus® LP100 là thiết bị phân tích khí hiện đại từ INFICON, giúp phát hiện rò rỉ và xác định điểm kết thúc quy trình trong thời gian thực, đảm bảo hiệu suất và độ chính xác cao trong các môi trường sản xuất quan trọng.
THÔNG SỐ KĨ THUẬT
Dải áp suất hoạt động
10 mTorr đến 1 Torr
Khả năng phát hiện tối thiểu
Nồng độ ppm (tuỳ ứng dụng)
Tốc độ lấy mẫu tối đa
10 Hz
Kích thước
87 x 151 x 241 mm
Kết nối
KF25 tiêu chuẩn
Hiệu suất máy quang phổ
Dải bước sóng: 200 – 850 nm (UV-VIS)
Độ phân giải toàn thang: 16-bit. Số lượng điểm ảnh: 2048 pixel
Bảo trì
Tế bào plasma có thể thay thế tại chỗ
ƯU ĐIỂM NỔI BẬT
Quantus® LP100 nhỏ gọn, dễ lắp đặt với kết nối KF25, bảo trì đơn giản và không cần bơm. Thiết bị có độ nhạy cao, hoạt động trong dải áp suất rộng (10 mTorr – 1 Torr) và lấy mẫu nhanh (10 Hz), đảm bảo khả năng giám sát chính xác, hiệu quả.
ỨNG DỤNG CHÍNH
- Phát hiện rò rỉ thời gian thực: Nhanh chóng phát hiện không khí hoặc khí không mong muốn xâm nhập vào buồng quy trình, đảm bảo chất lượng sản phẩm luôn đạt tiêu chuẩn.
- Xác định điểm kết thúc: Theo dõi chính xác quá trình ăn mòn và lắng đọng, đặc biệt hiệu quả trong các buồng plasma tối hoặc khu vực không có ánh sáng.
- Giám sát quy trình: Liên tục kiểm tra các thông số khí trong sản xuất, giúp giảm thiểu lỗi sản phẩm và tối ưu hóa hiệu suất làm việc.
